Argraffu Sgrin Silicôn a Dosbarthu Silicôn ar gyfer Dillad Isaf Di-dor

Wrth gynhyrchu dillad isaf di-dor,argraffu sgrin siliconadosbarthu siliconyn ddwy broses ymgeisio silicon a ddefnyddir yn gyffredin. Eu swyddogaeth graidd yw gwella perfformiad gwrthlithro, gosodiad ac effaith addurniadol dillad isaf. Mae manteision, anfanteision a senarios cymwys y ddwy broses yn sylweddol wahanol, ac mae'r dadansoddiad manwl fel a ganlyn:

I. Argraffu Sgrin Silicôn

Egwyddor Proses: Mae inc silicon wedi'i grafu'n gyfartal a'i argraffu ar wyneb ffabrig dillad isaf trwy gyfrwng plât sgrin i ffurfio haen silicon barhaus neu wedi'i chau allan, sy'n cael ei siapio ar ôl ei halltu.

Manteision

Patrymau cain ac effaith addurniadol grefGall gyflawni patrymau cymhleth, logos ac effeithiau graddiant gydag ymylon clir a thaclus, gan ei gwneud yn addas ar gyfer dillad isaf di-dor gyda gofynion ymddangosiad uchel (fel patrymau les ac argraffu logo brand).

Haen silicon denau, unffurf gyda chyffyrddiad meddalMae trwch y silicon ffurfiedig fel arfer yn 0.05-0.2mm, sydd ag adlyniad uchel i'r ffabrig. Nid yw'n achosi unrhyw deimlad corff tramor amlwg wrth ei wisgo, gan ddiwallu'n llawn y galw craidd o ddillad isaf di-dor am "anweledigrwydd a chysur".

Effeithlonrwydd cynhyrchu uchel a chost y gellir ei reoliGellir ailddefnyddio'r plât sgrin, gan ei wneud yn addas ar gyfer cynhyrchu safonedig ar raddfa fawr. Mae'r defnydd o silicon fesul cynnyrch uned yn fach, ac mae'r gost deunydd crai yn is na chost y broses ddosbarthu.

Perfformiad gwrthlithro sefydlog (ar gyfer rhaglenni gwrthlithro fflat-wyneb)Gall yr haen argraffu silicon barhaus gynhyrchu ffrithiant unffurf, sy'n addas ar gyfer anghenion gwrthlithro fflat ardal fawr o strapiau ysgwydd dillad isaf, paneli ochr a rhannau eraill.

Anfanteision

Adlyniad yn dibynnu ar pretreatment ffabrigOs na chaiff y ffabrig ei drin ymlaen llaw gan driniaeth corona neu gaenen, mae'r haen silicon yn dueddol o blicio a chracio, yn enwedig yn y rhannau lle mae ffabrigau elastig yn aml yn cael eu hymestyn (fel band gwaelod y dillad isaf).

Gwrthiant tynnol cyfyngedigMae'r haen silicon yn denau, ac mae ymestyn tymor hir dro ar ôl tro (fel dadffurfiad dillad isaf wrth wisgo) yn debygol o achosi toriad silicon, gan arwain at ddirywiad graddol yn yr effaith gwrthlithro.

Anallu i gyflawni effaith silicon trwchus tri dimensiwnMae trwch argraffu sgrin sengl yn gyfyngedig, felly mae'n amhosibl gwneud gronynnau gwrthlithro tri dimensiwn uchel neu stribedi silicon trwchus, ac mae terfyn uchaf perfformiad gwrthlithro yn is na'r broses ddosbarthu.

II. Dosbarthu Silicôn

Egwyddor Proses: Silicôn hylif (fel arfersilicon hylif tecstilausy'n addas ar gyfer dillad isaf di-dor) yn cael ei allwthio a'i orchuddio'n gywir ar wyneb ffabrig trwy nodwydd peiriant dosbarthu, ac yna'n ffurfio strwythur silicon tri dimensiwn mewn siâp dot, stribed neu bloc ar ôl ei halltu.

Manteision

Perfformiad gwrthlithro ardderchog a gafael cryfGall wneud gronynnau silicon uchel, streipiau neu gridiau, sy'n cynhyrchu mwy o ffrithiant gyda'r croen / dillad. Mae'n arbennig o addas ar gyfer y rhannau sydd angen gosodiad gwrthlithro cryf, fel strapiau ysgwydd ac ymylon cwpan o ddillad isaf maint plws a dillad isaf di-dor chwaraeon.

Tynnol da a gwrthsefyll traulGellir rheoli trwch yr haen silicon yn rhydd (0.3-2mm). Mae gan y strwythur tri dimensiwn ymwrthedd anffurfio cryfach. Hyd yn oed os yw'r ffabrig yn cael ei ymestyn dro ar ôl tro, nid yw'r silicon yn hawdd ei dorri a'i ddisgyn, ac mae bywyd y gwasanaeth yn hirach.

Cymhwysedd eang a dim cyfyngiadau patrwmNid oes angen gwneud platiau sgrin. Gellir addasu lleoliad, siâp a dwysedd silicon yn fympwyol trwy raglennu, sy'n addas ar gyfer addasu swp bach neu anghenion gwrthlithro personol.

Adlyniad cryfachAr ôl allwthio, gall silicon hylif dreiddio i mewn i fylchau ffibrau ffabrig. Ar ôl ei halltu, mae'n ffurfio "effaith angori" gyda'r ffabrig, gan ei gwneud hi'n anoddach cwympo i ffwrdd o'i gymharu â silicon wedi'i argraffu â sgrin.

Anfanteision

Effaith addurniadol wan a phatrymau garwMae'r silicon ar ffurf dotiau neu stribedi wedi'u codi, gydag ymylon yn llai taclus nag argraffu sgrin. Ni all gyflawni patrymau mân, ac mae'r ymddangosiad yn llai deniadol nag argraffu sgrin.

Cyffyrddiad cymharol galed a theimlad corff tramor amlwgMae'r strwythur silicon tri dimensiwn yn drwchus, a fydd yn achosi teimlad convex amlwg wrth gysylltu â'r croen wrth wisgo. Os yw'r dosbarthiad silicon yn rhy drwchus, gall effeithio ar y profiad "anweledigrwydd" o ddillad isaf di-dor.

Effeithlonrwydd cynhyrchu isel a chost uchelMae angen i'r peiriant dosbarthu gymhwyso pwynt glud fesul pwynt neu linell wrth linell, ac mae gallu cynhyrchu peiriant sengl yn is na chynhwysedd peiriant argraffu sgrin; Yn ogystal, mae'r defnydd o silicon fesul cynnyrch uned yn fwy, gan arwain at gostau deunydd crai ac amser uwch.

Mae manwl gywirdeb yn dibynnu ar ddadfygio offerMae ffactorau fel rhwystr nodwyddau a gludedd silicon ansefydlog yn debygol o achosi dosbarthu glud anwastad, gan arwain at broblemau megis gollyngiad glud a maint pwynt glud anghyson, sy'n effeithio ar gysondeb y cynnyrch.

III. Cymhariaeth Proses a Chrynodeb o'r Senario Perthnasol